射線(xiàn)顯微鏡Xradia 510 Versa總體描述
沿襲前一代的獲獎設計，Xradia 510 Versa已然成為 Xradia Versa 系列中擁有出色三維成像性能的基本款型，但其不包含旗艦產(chǎn)品的高級功能與特性。
射線(xiàn)顯微鏡Xradia 510 Versa技術(shù)參數：
Xradia Versa 系列使用兩級放大技術(shù)，實(shí)現大工作距離下的高分辨率（RaaD）。首先，樣品圖像與傳統微米 CT 一樣進(jìn)行幾何放大。在第二級，閃爍器將 X 射線(xiàn)轉換為可見(jiàn)光，然后進(jìn)行光學(xué)放大。Xradia Versa 解決方案降低了對幾何放大的依賴(lài)性，因此可在大工作距離下保持亞微米高分辨率，使得對各種尺寸的樣品和原位樣品艙內的樣品進(jìn)行高效研究成為可能。
無(wú)損三維成像，盡可能實(shí)現更大限度保護和擴展貴重樣品的利用率
使用Versa顯微鏡設計，實(shí)現距離射線(xiàn)源大工作距離的高分辨率，是原位和大體積樣品成像的先決條件
多尺度范圍成像功能可以對同一樣品進(jìn)行大范圍的多倍率成像，擁有高達0.7微米的真實(shí)空間分辨率，體素大小低至70納米
業(yè)內先進(jìn)的4D和原位功能提供多種原位輔助裝置，適用于實(shí)際尺寸從毫米到數厘米的樣品的亞微米級分辨率成像，承重可達 15kg，樣品尺寸最大到300mm的雙級放大構架可以輕松通過(guò)多種倍率檢測系統進(jìn)行導航，通過(guò)自動(dòng)多點(diǎn)斷層掃描和重復掃描進(jìn)行連續運轉以及快速重建
適用于低原子序數材料和軟組織的先進(jìn)成像襯度解決方案
搜索和掃描（Scout-and-Scan™）功能可實(shí)現多用戶(hù)環(huán)境下的簡(jiǎn)化工作流程
幾乎無(wú)樣品制備需求
可選配的Versa原位輔助裝置支持環(huán)境樣品艙內（如線(xiàn)纜和管線(xiàn)）的配套設施，達到更高的成像性能和輕松設置
可選配的自動(dòng)進(jìn)樣系統可編程和同時(shí)運行多達14個(gè)樣品，提高了生產(chǎn)效率，全自動(dòng)工作流程可用于大體積掃描
特點(diǎn)：
距離射線(xiàn)源數毫米至數厘米，仍能獲得真實(shí)的亞微米級空間分辨率
Xradia 510 Versa 充分發(fā)揮了X射線(xiàn)顯微鏡（XRM）的性能，能夠為各種不同的樣品和研究環(huán)境提供靈活的3D成像解決方案。Xradia 510 Versa 擁有高達 0.7 微米的真實(shí)空間分辨率，體素大小低至 70 納米。結合先進(jìn)的吸收襯度技術(shù)和適用于軟材料或低原子序數材料的創(chuàng )新相位襯度技術(shù)，Xradia 510 Versa 的通用性得到提升，以至能夠突破傳統計算機斷層掃描方法的局限性。
性能超越微米CT，突破了過(guò)去科學(xué)研究中使用平板系統的局限。傳統斷層掃描依賴(lài)于單級幾何放大，而 Xradia Versa 依靠擁有在長(cháng)工作距離下優(yōu)化的分辨率、襯度和高分辨檢測系統，并采用了基于同步口徑光學(xué)元件的的兩級放大技術(shù)。蔡司突破性的的大工作距離下的高分辨率（RaaD）特性，實(shí)現了在實(shí)驗室中對各種類(lèi)型和尺寸的樣品和多種應用進(jìn)行全新的探索。
無(wú)損X射線(xiàn)和靈活的多尺度范圍成像功能可以對同一樣品進(jìn)行大范圍的多倍率成像。作為業(yè)內先進(jìn)的4D/原位解決方案，Xradia Versa 可以對原始環(huán)境下的材料微結構，以及隨時(shí)間的演化進(jìn)行獨的表征?？蛇x配的Versa原位套件通過(guò)優(yōu)化設置和操作，操作極為簡(jiǎn)便，同時(shí)縮短了獲得結果的時(shí)間，并支持原位輔助裝置（如線(xiàn)纜和管線(xiàn)），實(shí)現高成像性能和易用性。
另外，搜索和掃描控制系統（Scout-and-Scan™）可實(shí)現多用戶(hù)環(huán)境下的簡(jiǎn)化工作流程。
產(chǎn)品型號：
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