蔡司 Xradia Synchrotron 系列顯微鏡總體描述
蔡司 X 射線(xiàn)納米斷層成像和熒光顯微技術(shù),蔡司 Xradia Synchrotron 系列
蔡司在同步加速器實(shí)驗室中的 X 射線(xiàn)顯微鏡裝機量全球靠前,藉此不斷提升先進(jìn)研究機構的實(shí)力。在實(shí)驗室內引入蔡司 X 射線(xiàn)納米斷層成像和熒光顯微技術(shù),讓耗時(shí)且耗費財力的內部開(kāi)發(fā)成為過(guò)去。
蔡司 Xradia Synchrotron 系列顯微鏡技術(shù)參數:
利用蔡司成熟的同步輻射平臺,將更多的時(shí)間和精力投入到研究中,而非把財力和時(shí)間浪費在內部自主開(kāi)發(fā)上。
根據研究任務(wù)需求,選擇更適合的三維 X 射線(xiàn)顯微技術(shù)平臺。
Xradia 800 Synchrotron:硬 X 射線(xiàn)納米斷層成像技術(shù)
綜合運用<30 nm 的分辨率完成非破壞性三維斷層成像,在無(wú)需對感興趣的區域進(jìn)行切割或切片處理的情況下獲取樣品的詳細體積數據
體驗先進(jìn)技術(shù)的靈活性并對大量樣品進(jìn)行原位成像,借助優(yōu)異的圖像品質(zhì)和高效性能來(lái)了解實(shí)際操作環(huán)境條件的影響
Xradia 825 Synchrotron:軟 X 射線(xiàn)納米斷層成像技術(shù)
使用“水窗"波段對自然潮濕環(huán)境中的有機樣品進(jìn)行高襯度成像
對完整細胞和組織的結構進(jìn)行成像,使用低溫樣品處理較大限度地減少輻射損傷的影響
關(guān)聯(lián)光學(xué)熒光顯微技術(shù),用以對結構和功能進(jìn)行組合關(guān)聯(lián)成像
Xradia 835 Synchrotron:X 射線(xiàn)熒光顯微技術(shù)
Xradia 835 Synchrotron 是一套靈活且可擴展的平臺,它將蔡司專(zhuān)屬的光學(xué)器件與 X 射線(xiàn)熒光、譜學(xué)和衍射等分析技術(shù)相結合
借助超高靈敏度進(jìn)行痕量元素的二維分布和定量分析
在利用低溫樣品處理技術(shù)更大限度地減少生物樣品內輻射損傷的同時(shí)以?xún)?yōu)至 30 nm 的分辨率進(jìn)行成像
特點(diǎn):
斷層成像、熒光、冷凍技術(shù)
Xradia 800 Synchrotron:硬 X 射線(xiàn)納米斷層成像技術(shù)
三維 X 射線(xiàn)斷層成像能夠提供內部結構的詳細體積數據,而無(wú)需對感興趣的區域進(jìn)行切割或切片處理。工作能量范圍為 5-11 keV,可利用<30 nm 的分辨率對不同種類(lèi)的樣品成像,包括電池和燃料電池的電極材料、催化劑及軟硬組織等。Xradia 800 Synchrotron 是先進(jìn)技術(shù)的理想之選 ,如用于三維化學(xué)分布和原位成像的 XANES 光譜學(xué)-顯微成像技術(shù),能夠讓您在實(shí)際操作環(huán)境條件下研究材料特性。
Xradia 825 Synchrotron:軟 X 射線(xiàn)納米斷層成像技術(shù)
在軟 X 射線(xiàn)波長(cháng)范圍內完成三維斷層成像,包括能量從“水窗"波段到2.5 keV 的中能波段,非常適合于完整細胞和組織的結構成像。低溫樣品處理可以實(shí)現對含水樣品進(jìn)行成像,在盡可能保持樣品接近自然狀態(tài)的情況下,更大限度地減少輻射損傷的影響。其他應用還包括有機和無(wú)機材料的化學(xué)態(tài)分布及磁疇成像。
Xradia 835 Synchrotron:X 射線(xiàn)熒光顯微技術(shù)
硬 X 射線(xiàn)納米探針?lè )浅_m合于借助超高靈敏度進(jìn)行痕量元素分布和定量分析的應用。這類(lèi)應用可能包含金屬和功能性納米顆粒在健康與疾病領(lǐng)域中的效用、植物內攝入的重金屬、太陽(yáng)能電池及其它功能性材料中的污染和缺陷。Xradia 835 Synchrotron 是一套靈活且可擴展的平臺,它將蔡司波帶片光學(xué)器件與 X 射線(xiàn)熒光、光譜和衍射等已有的分析技術(shù)相結合。低溫樣品處理能在需要高分辨率成像的生命科學(xué)應用中更大限度地減少輻射損傷的影響。